[发明专利]X射线系统中的剂量率控制有效
| 申请号： | 200680004582.4 | 申请日： | 2006-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN101115442A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | R·赫斯;R·斯泰纳 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;H05G1/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 龚海军;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于控制X射线系统的剂量率(曝光kV管电压)的控制器，其中，测量实际剂量率，将其与最佳剂量率比较，所得的差值被送给模块(20)(如PID模块)，该模块被配置为(通过调整曝光kV电压)调整剂量率，以最小化差值。不需要在曝光前键入预设的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 系统 中的 剂量率 控制 | ||
【主权项】：
1.一种用于X射线系统的控制器，所述X射线系统包括：X射线产生器(10)，其馈给X射线管(1 2)以产生X辐射；以及用于探测已经穿过要成像的对象(14)的X辐射的强度分布的装置，所述控制器包括装置(16)，所述装置(16)用于：确定产生所述X辐射的实际剂量率，将所述的实际剂量率与依赖于所述对象(14)厚度的预定最佳剂量率相比，并将所述实际剂量率调整为基本对应所述最佳剂量率。
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