[发明专利]用于选择最佳写入参数的方法和装置以及供所述方法和装置使用的光学记录媒质无效
申请号: | 200680002548.3 | 申请日: | 2006-01-16 |
公开(公告)号: | CN101107653A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | M·凯帕 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/125 | 分类号: | G11B7/125 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊延峰;谭祐祥 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种用于设定光学记录装置中使用的写入参数最佳值的方法,该光学记录装置利用辐射光束在光学记录媒质上写入信息。通过曲线拟合函数和由该曲线拟合函数获得的特征性写入功率电平(PChar)来得到该写入参数最佳值。然后估计该特征性写入功率电平(PChar)是否符合写入参数最佳值的标准。如果该特征性写入功率电平(Pchar)不符合写入参数最佳值的标准,则开始重复过程,在该重复过程中由以下等式给出随后的写入功率电平(Pini,n)初始值:Pini,n+1=A Pini,n+(1-A)Pchar,n,其中A为常数,n为整数。本发明还涉及根据本发明的光学记录装置和光学记录媒质。 | ||
搜索关键词: | 用于 选择 最佳 写入 参数 方法 装置 以及 使用 光学 记录 媒质 | ||
【主权项】:
1.一种用于设定光学记录装置中使用的写入参数最佳值的方法,该光学记录装置用于利用辐射光束(5)在光学记录媒质(1)上写入信息,所述方法包括以下步骤:1)在记录媒质上写入一系列测试图案,每个图案以不同的辐射光束写入功率电平(P)值写入,2)读取图案从而形成相应的读取信号部分(18、19),3)由每个读取信号部分获得读取参数值,4)针对读取参数和写入功率电平(P)的相关值,曲线拟合定义读取参数与写入功率电平(P)之间关系的函数,该曲线拟合函数具有写入功率电平的初始值(Pini),5)从该曲线拟合函数获得特征性写入功率电平(Pchar),并且估计该特征性写入功率电平(Pchar)是否符合写入参数最佳值标准,且 如果该特征性写入功率电平(Pchar)不符合写入参数最佳值的标准,则开始6)通过重复过程获得一个或多个特征性写入功率电平(Pchar,n),在重复过程中由以下等式给出随后的写入功率电平(Pini,n)初始值Pini,n+1=A Pini,n+(1-A)Pchar,n,其中A为常数,n为整数。
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