[发明专利]图像曝光设备和微透镜阵列单元

摘要

本发明公开了一种能够防止曝光的图像质量下降的图像曝光设备。该设备包括空间光学调制装置(50)，该空间光学调制装置(50)包括大量的两维排列的像素区；光源(66)；以及图像聚焦光学系统(51)，该图像聚焦光学系统(51)用于将由空间光学调制装置(50)调制的光(B)所表现的图像聚焦在感光材料上，该图像聚焦光学系统(51)包括图像聚焦透镜(52、54)和微透镜阵列(55)，所述微透镜阵列布置为多个微透镜定位在由图像聚焦透镜(52、54)聚焦的每一个像素区的图像位置处。微透镜阵列(55)被容纳在具有两个透明部分(82、83)的壳体(80)中，该透明部分(82、83)分别用于透射将要通过微透镜阵阵列(55)的光和透射已经通过微透镜阵列(55)的光，用以防止灰尘粘附于该微透镜阵列。

主权项

1.一种图像曝光设备，包括：空间光学调制装置，所述空间光学调制装置包括大量的两维排列的像素区，每一个用于调制照射在其上的光；光源，用于将光照射在所述空间光学调制装置上；以及图像聚焦光学系统，所述图像聚焦光学系统用于将通过所述空间光学调制装置调制的光所表现的图像聚焦在感光材料上，所述图像聚焦光学系统包括：将从空间光学调制装置的每一个像素区反射的光会聚的图像聚焦透镜；和微透镜阵列，其具有布置在由所述图像聚焦透镜聚焦的每一个像素区的图像位置处的多个微透镜，其中所述微透镜阵列被容纳在具有两个透明部分的壳体中，所述透明部分分别用于透射将要通过微透镜阵列的光和透射已经通过微透镜阵列的光。