[实用新型]双台轮换曝光精密定位系统无效
| 申请号： | 200620044000.2 | 申请日： | 2006-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN2938172Y | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 李映笙;李小平;杨志勇;关俊;高少文;孙文凤;李刚;蔡燕民 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双台轮换曝光精密定位系统，至少包括基台、设置在基台上并运行于预处理工位的硅片台定位单元、运行于曝光工位的硅片台定位单元，每个硅片台定位单元至少包括硅片台、运动定位检测装置、X向导轨、Y向导轨、线性光栅。该系统的预处理工位和曝光工位均设置有两个X向导轨，所述X向导轨位于Y向导轨上方，可沿Y向导轨运动，相邻工位的X向导轨可进行对接。有益效果是：硅片台的交换路径短，导轨受力均匀，受工位尺寸约束小，极大地提高了系统的交换速度，运行精度和可扩展性。同时，本实用新型的结构不需采用额外的防碰撞装置，简化了系统，降低了成本，有效地提高了可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 轮换 曝光 精密 定位 系统 | ||
【主权项】：
1.一种双台轮换曝光精密定位系统，至少包括基台、设置在基台上并运行于预处理工位的硅片台定位单元、运行于曝光工位的硅片台定位单元，每个硅片台定位单元至少包括硅片台、运动定位检测装置、X向导轨、Y向导轨、线性光栅，其特征在于：每个工位均设置两个X向导轨，所述X向导轨位于Y向导轨上方，可沿Y向导轨运动，相邻工位的X向导轨可进行对接。
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