[实用新型]一种用于文物保护的双腔真空压力浸渍装置无效

专利信息
申请号: 200620036541.0 申请日: 2006-12-06
公开(公告)号: CN201056544Y 公开(公告)日: 2008-05-07
发明(设计)人: 汪灵;张湘辉;万明;叶巧明 申请(专利权)人: 成都理工大学
主分类号: C04B41/45 分类号: C04B41/45
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610059四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及一种用于文物保护的双腔真空压力浸渍装置,由两个可预抽真空的浸渍剂腔室(1)与材料合成腔室(2),两套既相对独立又相互联通的抽气与真空测量系统,一套可控气体加压系统,两套油、水气过滤系统组成。其特征是:通过调控腔室(1)、(2)压差,有效去除文物中水分及空气,避免浸渍剂剧烈沸腾对文物的破坏,通过质量流量计控制腔室(2)渗压值而获得高浸渍率,通过活性炭过滤部件维护系统真空性能,所有部件均执行标准KF接口,拆卸清洗方便。结构简单,通过浸渍剂(2)、材料合成(1)双腔室的合理运用,克服了现有单腔真空浸渍装置缺陷,使浸渍剂有效填充到文物中,适用于具有一定含水率和孔隙率以及裂隙结构的文物保护。
搜索关键词: 一种 用于 文物保护 真空 压力 浸渍 装置
【主权项】:
1.一种用于古文物保护的双腔真空压力浸渍装置,它包括有浸渍剂腔室(1)、材料合成腔室(2)、活性碳过滤部件(6),其特征在于浸渍剂腔室(1)与材料合成腔室(2)上下端都焊接有KF标准接口,浸渍剂腔室(1)下端KF接口通过KF-25快卸法兰(3-3,3-4,3-16)、KF-25接口真空球阀(8-1)、真空波纹管(22-2)与材料合成腔室(2)上端KF接口连接,浸渍剂腔室(1)由支架(13)定位在材料合成腔室(2)的正上方。
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