[实用新型]集束射流清洗装置无效

专利信息
申请号: 200620020504.0 申请日: 2006-03-29
公开(公告)号: CN2882827Y 公开(公告)日: 2007-03-28
发明(设计)人: 王德庆 申请(专利权)人: 王德庆
主分类号: B08B9/053 分类号: B08B9/053
代理公司: 大庆市建华专利事务所 代理人: 赵建华
地址: 163714黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 实用新型涉及的是一种集束射流清洗装置。该装置由中心轴、叶片、电子发射器组成,叶片为三组,电子发射器置于中心轴的空腔内;三组叶片中,一组叶片为开有斜孔的伞形叶片,伞形叶片中心有通孔贯穿中心轴与中心轴固定;另外两组为楔形叶片,每组楔形叶片由至少为两层楔形子叶片交错放置与中心轴插装。本实用新型的特有结构使流体在空穴射流效应区的流动方向有所改变,加大了流速,空穴的数量和冲击能量大大增加,除垢能量大,排污能力强;可有效解决清洗装置的尾部积垢问题。同时清洗装置中心轴内置电子发射器,通过电子接收器很容易跟踪定位,解决了现有清洗装置在管路中丢失难以查找的问题,省时、省力,操作过程更容易、方便。
搜索关键词: 集束 射流 清洗 装置
【主权项】:
1、一种集束射流清洗装置,由叶片、中心轴、电子发射器组成,其特征在于:叶片为三组,中心轴(1)中心为空腔,电子发射器(5)置于中心轴(1)的空腔内;三组叶片中,一组叶片为开有斜孔(6)的伞形叶片(4),伞形叶片(4)中心有通孔贯穿中心轴(1)与中心轴(1)固定;另外两组为楔形叶片(2、3),每组楔形叶片由至少为两层楔形子叶片(7)交错放置与中心轴(1)插装。
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