[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200610172380.2 | 申请日： | 2006-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN1971430A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | J·J·奥坦斯;M·E·J·伯恩曼;T·J·M·卡斯坦米勒;A·B·祖尼克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王小衡;王忠忠 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻设备，包括构造以支撑第一制品或第二制品的制品支架，所述第一制品能在辐射束的束路径中在辐射束的截面中赋予辐射束图形以形成构图的辐射束，所述第二制品将被放置在构图的辐射束的束路径中，该制品支架具有多个支撑突起，在使用中在所述支撑凸起上布置了第一或第二制品，其中构造多个支撑突起以确定支撑区以为第一制品或第二制品提供支撑平面，以使当第一或第二制品遭受热负荷时支撑区允许第一制品或第二制品的至少一部分膨胀或收缩以分别减轻在第一制品或第二制品中的机械应力的增加，同时维持第一制品或第二制品基本上固定到制品支架上，和配置以在一段时间期间上确定第一制品或第二制品在位于支撑区的平面的方向上的位置偏移的位置传感器，和配置以将构图的辐射束投射到第二制品的目标部分的投影系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：被构造成支撑第一制品或第二制品的制品支架，所述第一制品能在辐射束的束路径中在辐射束的截面中赋予辐射束图形以形成构图的辐射束，所述第二制品将被放置在构图的辐射束的束路径中，该制品支架包括：多个支撑突起，在使用中在其上布置第一或第二制品，其中构造多个支撑突起以限定支撑区以提供用于第一制品或第二制品的支撑平面，以使当第一或第二制品遭受热负荷时支撑区允许第一制品或第二制品的至少一部分膨胀或收缩以分别减轻在第一制品或第二制品中的机械应力的增加，同时维持第一制品或第二制品基本上固定到制品支架上，和配置以在一段时间期间上确定第一制品或第二制品在位于支撑区的平面的方向上的位置偏移的位置传感器；和配置以将构图的辐射束投射到第二制品的目标部分的投影系统。
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