[发明专利]基板输送系统、基板输送装置及基板处理装置无效
| 申请号： | 200610164202.5 | 申请日： | 2006-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1978356A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | 太田义治;坂井光广 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C03B35/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是输送基板以使得在玻璃基板上的涂敷膜上不产生不均。在抗蚀剂涂敷处理组件的台的前后，设有第1输送体和第2输送体。第2输送体具有在Y方向上排列的多个辊、支承辊的保持器、和安装保持器的轨道板。在保持器上设有使辊旋转的旋转驱动部、和使保持器沿Y方向进退的水平驱动部。在台上设有相互独立而升降自如的升降销组。在通过升降销组使玻璃基板上升的状态下，使辊进入到玻璃基板的下方，将玻璃基板交接给该辊。辊一边旋转而以低速将玻璃基板向后方输送，一边后退。 | ||
| 搜索关键词： | 输送 系统 装置 处理 | ||
【主权项】：
1、一种基板输送系统，相对于将涂敷液涂敷到基板上的涂敷处理部输送基板，其特征在于，具备：输送体，具有能够支承基板且沿水平方向排列的多个辊、一体地支承上述多个辊的支承部件、使上述支承部件移动而使上述多个辊相对于涂敷处理部进退的移动机构、和使上述多个辊旋转的旋转驱动部；升降机构，使上述涂敷处理部的基板升降。
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