[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200610163176.4 | 申请日： | 2006-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1975582A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 陈继恒;S·G·翰森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王小衡;梁永 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提出一种使用光刻设备将图形的图像转移到衬底上的方法。该方法包括选择包括光瞳滤波器参数的多个参数；对于所选参数计算图形的图像；在处理范围上计算表示所计算的图像的属性的变化的度量；并根据度量结果调整多个参数。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种使用光刻设备将图形的图像从构图装置转移到衬底上的方法，该方法包括：过滤使用构图装置的图形构图的辐射束，以便从转移到衬底上的图形的图像中基本上消除零级非衍射级，构图装置由无铬相移掩模和具有高于约10％的透射百分比的高透射衰减相移掩模中的一个构成；以及将过滤的构图辐射束投射到衬底上。
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