[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610151872.3 | 申请日： | 2006-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1932650A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | E·R·卢普斯特拉;E·A·F·范德帕斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻装置，其包括用于保持基底的基底台，用于将带图案的光束投影到基底靶部的投影系统；和配置成至少在三个自由度上测量所述基底台的位置的位移测量系统。所述位移测量系统包括配置成在第一方向测量基底台的位置的第一x－传感器和配置成在第二方向测量基底台的位置的第一和第二y－传感器。所述位移测量系统还包括第二x－传感器，其中所述第一和第二x－传感器以及所述第一和第二y－传感器是编码器型传感器，它们配置成测量每个所述传感器相对至少一个栅板的位置。所述位移测量系统配置成根据所述基底台的位置，选择性地使用所述第一和第二x－传感器以及所述第一和第二y－传感器中的三个传感器，以在三个自由度上确定所述基底台的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底靶部的投影系统；和配置成测量所述基底台的位置的位移测量系统，其中所述位移测量系统包括至少一个编码器型x-传感器，其安装在基底台上并配置成在第一方向测量基底台相对两个或多个大体上静止的相邻栅板的位置，所述位移测量系统配置成当横过所述两个或多个相邻栅板之间的交叉线时连续测量所述基底台的位置。
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