[发明专利]光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法有效
| 申请号： | 200610145216.2 | 申请日： | 2006-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN1963671A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 周伟峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种TFT LCD光刻工艺中的光刻胶涂覆设备，包括：平台、光刻胶供给机构、喷嘴和喷嘴移动机构，其中喷嘴由光刻胶喷嘴和压缩空气喷嘴组成。且光刻胶喷嘴为多个，设置在喷嘴的中间位置或设置在喷嘴的两侧，或每个光刻胶喷嘴的周围包围多个压缩空气喷嘴。本发明同时公开了利用本发明的光刻胶涂敷设备涂敷光刻胶的方法。本发明由于在涂敷设备的喷嘴上同时提供了光刻胶喷嘴与压缩空气喷嘴的结构，进一步简化了制作工艺，节约了设备成本，此外，本发明提高了光刻胶涂覆的均匀性，大大降低了光刻胶的使用量，从而进一步提高了TFT LCD的制作效率和速度，降低了制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂覆 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种TFT LCD光刻工艺中的光刻胶涂覆设备，包括：平台、光刻胶供给机构、喷嘴和喷嘴移动机构，其特征在于：所述喷嘴由光刻胶喷嘴和压缩空气喷嘴组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610145216.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：纤维织物化学处理喷淋设备
- 下一篇：电动机驱动的机构的制动装置
