[发明专利]次生硫化铜矿生物浸出过程黄铁矿选择性抑制工艺

摘要

本发明涉及一种次生硫化铜矿生物浸出过程黄铁矿选择性抑制工艺。它利用含Thiobacillus ferrooxidans Retech III(简称T.F.R.III浸矿菌)(已保藏在中国国家典型培养物保藏中心(武汉大学内)保藏登记号CCTCC No：M200033)浸矿菌，在不同浸出时期，采取分阶段间歇和连续两种喷淋方式，以及细菌活性、pH值等条件的合理匹配，从而达到低pH值和低电位的生物浸出体系，实现硫化铜矿高效选择性浸出，而黄铁矿得到有效抑制，降低酸和铁的产生量。浸出后的合格浸出液经萃取后，水相返回堆浸，有机相进入反萃工序处理。本工艺流程短、设备简单、成本低、无污染、回收率高，能够处理传统选冶工艺难以处理的低品位次生硫化铜矿资源，提高铜资源的综合利用率。

主权项

1.一种次生硫化铜矿生物浸出过程黄铁矿选择性抑制工艺，其特征在于：它包括以下步骤：(1)矿石的预处理将低品位难处理次生硫化铜矿矿石破碎到粒度在12mm以下，随后筑堆，形成多孔洞的自然堆；用含有浸矿菌的Fe3+、pH1.0～1.5的稀硫酸溶液喷淋或滴淋矿堆；(2)混合浸矿菌堆浸经步骤(1)预处理后的矿堆，接入经复长、驯化的Thiobacillusferrooxidans Retech III(简称T.F.R.III浸矿菌)(已保藏在中国国家典型培养物保藏中心(武汉大学内)保藏登记号CCTCC No：M200033)浸矿菌，在不同浸出时期，采取分阶段间歇和连续两种喷淋方式，喷淋强度为20～30L/(m2·h)，其喷淋液中含浸矿菌106～108个/ml，喷淋液的氧化还原电位350～410mV(SCE)，控制堆内温度在20～25℃范围内，浸出体系的pH值1.0～1.5，保持氧化还原电位在310～410mV(SCE)；(3)浸出液经净化工序，为降低喷淋液中Fe3+浓度，采用间断式中和沉淀法除Fe3+，以控制喷淋液中总铁浓度小于10g/L，其中Fe3+/Fe2+ 为3.75～4.25，溶液氧化还原电位350～410mV(SCE)；(4)净化后的浸出液进入萃取工序，经萃取后，有机相进入反萃、电积流程，水相经pH调节后重返矿堆浸矿，返回液pH在1.5～2.0之间，控制喷淋液的氧化还原电位在350～410mV(SCE)。