[发明专利]光刻装置、器件制造方法和由其制造的器件有效
| 申请号： | 200610142302.8 | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN1940729A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | J·J·奎特;P·沙普;S·罗克斯;G·奥康纳 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种设置成可将图案从图案形成结构转移到衬底上的光刻装置，其包括构造成可固定衬底的衬底固定装置和构造成在将衬底转移到衬底固定装置上之前、期间或这两者时可调节衬底的温度到大致上与衬底固定装置的温度相匹配的衬底温度调节装置。此外提供了一种设置成可将图案从图案形成结构转移到衬底上的光刻装置，其包括构造成可固定图案形成结构的第一图案形成结构固定装置；构造成可在将图案形成结构转移到图案形成结构固定装置上之前调节图案形成结构的温度的图案形成结构温度调节装置，其中图案形成结构温度调节装置设置有第二图案形成结构固定装置；和至少一个用于将第一和第二图案形成结构固定装置热调节到大致相同温度的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种设置成可将图案从图案形成结构转移到衬底上的光刻装置，包括：衬底固定装置，其构造成可固定衬底；和衬底温度调节装置，其构造成在将所述衬底转移到所述衬底固定装置上之前、期间或这两者时可调节所述衬底的温度到大致上与所述衬底固定装置的温度相匹配。
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