[发明专利]用于补偿辐射诱导的热变形的系统和方法有效
| 申请号： | 200610142140.8 | 申请日： | 2006-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1945441A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | P·A·J·蒂尼曼斯;W·J·弗尼马;K·J·J·M·扎尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于补偿作用在光刻装置上的热效应的系统和方法。所述系统包括构图部件、投影系统、基底位置控制器和基于基底位置的膨胀补偿器。所述构图部件可调制辐射光束。所述投影系统将调制的辐射光束投影到基底靶部上。所述基底位置控制器使基底相对投影系统顺序通过多个曝光位置而移动。所述基于基底位置的膨胀补偿器与基底位置控制器相互作用以改变曝光位置，从而至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热诱导的几何形状变化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 补偿 辐射 诱导 变形 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其包括调制辐射光束的构图部件；将调制的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统；使基底相对投影系统顺序通过多个曝光位置而移动的基底位置控制器，和基于基底位置的膨胀补偿器，其与基底位置控制器相互作用以改变曝光位置，从而至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热诱导的几何形状变化。
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