[发明专利]抗蚀剂材料和微加工方法无效
| 申请号： | 200610142004.9 | 申请日： | 2003-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN1945431A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 河内山彰;荒谷胜久 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种抗蚀剂材料和一种微加工方法，提供了高分辨率的微加工而无需使用例如电子束或离子束的昂贵的照射装置。即，该抗蚀剂材料和该微加工方法使用目前使用的曝光装置实现了进一步精细的微加工。包含过渡金属如W和Mo不完全氧化物的抗蚀剂层被选择性曝光和显影以将抗蚀剂层图案化成预定形式。在此所指的过渡金属的不完全氧化物是一种氧含量低于由对应于过渡金属的可能化合价的化学计量氧含量的化合物。换句话说，该化合物的氧含量低于对应于过渡金属的可能化合价的化学计量氧含量。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 材料 加工 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包含不完全氧化的过渡金属的抗蚀剂材料，所述不完全氧化过渡金属的氧含量低于对应于该过渡金属的可能化合价的化学计量氧含量，其中不完全氧化的过渡金属包含Mo和W。
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