[发明专利]光刻机台、显影装置及其显影方法无效
| 申请号： | 200610138025.3 | 申请日： | 2006-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN1949083A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 王明山;曾振助;郑雅夫;林明辉 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;徐金国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显影装置及其显影方法，该装置包括一平台，用以支撑一基板，所述基板的表面具有一已曝光的光刻胶层；一流体注入器，相对于所述基板移动，且在一第一时间注入一显影液至所述基板上以显影所述已曝光的光刻胶层，并在一第二时间注入一流体至所述基板上以清洗所述基板。从而可预清洗预显影的光刻胶，从而避免预显影的光刻胶过显影及后显影的光刻胶显影不足的问题。经过上述的显影装置显影后，整片基板的临界尺寸将趋于一致，并可大幅改善显影工艺的成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机台 显影 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显影装置，其特征在于，包括：一平台，用以支撑一基板，所述基板的表面具有一已曝光的光刻胶层；一流体注入器，相对于所述基板移动，且在一第一时间注入一显影液至所述基板上以显影所述已曝光的光刻胶层，并在一第二时间注入一流体至所述基板上以清洗所述基板。
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