[发明专利]气体喷头、光刻装置和气体喷头的应用有效
| 申请号： | 200610135675.2 | 申请日： | 2006-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN1952786A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | T·A·R·范恩佩尔;R·范德哈姆;N·J·J·罗塞特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种在光学装置中调节至少一个光路的气体喷头，其中所述气体喷头包括具有喷头出口侧以向光路供给气体的气体分配室，所述气体分配室配置成将气体分配到光路，其中所述气体分配室包括大体上尖锐的锥形尖端。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 喷头 光刻 装置 应用 | ||
【主权项】：
1.一种调节光刻装置中的至少一个光路的气体喷头，所述气体喷头包括具有喷头出口侧以向所述光路供给气体的气体分配室，所述气体分配室配置成将所述气体分配到所述光路，其中所述气体分配室包括大体上尖锐的锥形尖端。
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