[发明专利]纳米硅酸盐长余辉发光材料的制备方法无效
| 申请号： | 200610129257.2 | 申请日： | 2006-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN1948426A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 季惠明;吕莹;徐明霞 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C09K11/59 | 分类号： | C09K11/59 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300072天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及纳米硅酸盐长余辉发光材料的制备方法。本发明的制备方法是采用溶胶－凝胶技术，配方中以硅酸盐为基质，使用Eu2+作为激活剂，Dy3+为辅助激活剂，通过加入含硼的化合物提高余辉性能，从而形成硅酸盐长余辉发光材料的化学配方组成，其分子式为Sr2－x－yMgSi2O7:Eux，Dyy，其中0.001＜x＜0.05，0.001＜y＜0.05，H3BO3＝0～0.3mol。使其利用纳米合成技术，制备纳米尺度的长余辉发光材料，从而解决了现有长余辉发光粉体颗粒粗大，且激活离子等不能在基质中均匀分布等降低发光强度的问题。大大扩展了此类长余辉发光材料的应用领域。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 硅酸盐 余辉 发光 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米硅酸盐长余辉发光材料的制备方法，采用溶胶—凝胶技术，其特征是按照Sr2-x-yMgSi2O7:Eux，Dyy的配方配制纳米硅酸盐长余辉发光材料，其中0.001＜x＜0.05，0.001＜y＜0.05，H3BO3＝0～0.3mol。
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