[发明专利]研磨垫、研磨方法及研磨装置无效
申请号: | 200610129053.9 | 申请日: | 2006-09-05 |
公开(公告)号: | CN101045290A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
发明(设计)人: | 中川泰忠;小池荣二郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | B24D17/00 | 分类号: | B24D17/00;B24B29/02;H01L21/304 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种具有穿通孔的研磨垫,通过提高研磨液的供应排出能力,能缩小研磨量的偏差。本发明的研磨垫具备:板状的垫本体(12),一个面作为研磨面(12a),另一个面作为支持面(12b);以及多个穿通部(20),从研磨面(12a)到支持面(12b)穿通垫本体(12),其开口部沿着上述研磨液的流动方向形成。 | ||
搜索关键词: | 研磨 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种研磨垫,旋转研磨被研磨物,其特征在于具备:板状的垫本体,一个面作为研磨面,另一个面作为支持面;以及多个孔部,从上述研磨面到上述支持面穿通上述垫本体,其开口部相对于上述研磨垫的径向以相同角度形成。
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