[发明专利]磁头装置有效
| 申请号: | 200610126655.9 | 申请日: | 2006-08-31 |
| 公开(公告)号: | CN100416659C | 公开(公告)日: | 2007-03-07 |
| 发明(设计)人: | 松本刚 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/60 | 分类号: | G11B5/60;G11B21/21 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈英俊 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 一种磁头装置,由于在记录介质的移动时形成于其表面的空气流而成为浮起姿势,在使用环境的空气密度发生变化时,也能够使磁功能部的浮起量稳定。磁头装置(1)的滑块(10)的中间区域具有较深的凹底部(51),实质上不产生浮起压力,在位于其前方的前方正压面(21)和位于后方的后方正压面(25)作用浮起力(F1、F1)。后方正压面(25)比具有磁功能部的从动侧端面(10d)位于前方,所以,当空气密度降低而滑块(10)的浮起距离下降时,滑块(10)以后方正压面(25)附近为支点,引导侧端部(10c)倾倒,使间距角(θ)减小。由此,从动侧端面(10d)相对地提起,能够抑制从动侧端面(10d)的浮起量的降低。 | ||
| 搜索关键词: | 磁头 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种磁头装置,具有:滑块,具有朝向记录介质的对置侧、和作用朝向记录介质的推压力的推压侧;和磁功能部,设置在滑块的从动侧,具有磁记录和磁再现的至少一个功能,其特征在于,上述滑块的对置侧具有位于引导侧的前方区域、位于从动侧的后方区域、及位于其中间的中间区域;上述中间区域具有比前方区域及后方区域更离开记录介质的凹底面,在前方区域形成有在该区域内最接近记录介质的前方正压面,在后方区域形成有在该区域内最接近记录介质的后方正压面;上述后方正压面比上述磁功能部位于前方、且比上述推压力的作用点位于后方,在上述后方正压面和磁功能部之间设有后退到比后方正压面更离开记录介质的一侧的后退面;在上述后方区域,在后方正压面的至少一部分的左右两侧形成有负压产生面,该负压产生面比后方正压面更离开记录介质、且比上述凹底面更接近记录介质;在该负压产生面的前方设有比负压产生面更接近记录介质的阻挡面。
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