[发明专利]用于确定粒子光学装置中透镜误差的方法有效

专利信息
申请号: 200610126647.4 申请日: 2006-08-31
公开(公告)号: CN1924553A 公开(公告)日: 2007-03-07
发明(设计)人: D·J·马斯;S·A·M·门廷克;J·J·L·霍里克希;B·H·弗雷塔格 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: G01N13/10 分类号: G01N13/10;H01J37/26;G01B15/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘春元;陈景峻
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种用于确定电子扫描显微镜中的透镜误差的方法,更具体地涉及一种使得这种透镜误差能被确定的样品。本发明描述了例如立方体氧化镁晶体的应用,所述氧化镁晶体很容易在硅晶片上被生产成所谓的“自组装”晶体。这样的晶体有几乎完美的角和边。即使在有透镜误差存在的情形下,这也能呈现出如同在不存在透镜误差的情况下的清楚印象。这允许在不同的欠焦和过焦平面上良好地重构光束横截面。在该重建的基础上透镜误差能被确定,于是它们能利用校正器被校正。
搜索关键词: 用于 确定 粒子 光学 装置 透镜 误差 方法
【主权项】:
1.一种用于确定粒子光学设备中的透镜误差的方法,该设备被设计成用聚焦的粒子束来扫描样品,包括:提供含有已知形状的部分的样品,通过用粒子束扫描样品来产生一个或多个样品图像,以及基于所产生的图像来确定所述束的横截面,其特征在于:该样品是一个带自由边的晶体样品,所述的边是由单晶体的边形成。
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