[发明专利]用于环行抛光机的校正板无效
| 申请号： | 200610119165.6 | 申请日： | 2006-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1970227A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | 樊全堂;朱健强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。经试用表明本发明校正板使工件的被抛光表面平整化过程更容易控制，可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 环行 抛光机 校正 | ||
【主权项】：
1、一种用于环行抛光机的校正板，其特征是：该校正板由上盘(21)和下盘(22)以及处于上盘(21)和下盘(22)之间的空腔内的多个位移调节件(16)固定在一起而构成，在所述的上盘(21)上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板(12)，该轴套板(12)的凸起中心位置通过推力轴承(13)套设一调压轴(11)，该调压轴(11)固定在一可在桁架(9)上移动的溜板(10)上。
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