[发明专利]六氟化铀中微量硼/硅元素的测量方法有效
申请号: | 200610111321.4 | 申请日: | 2006-08-22 |
公开(公告)号: | CN1908656A | 公开(公告)日: | 2007-02-07 |
发明(设计)人: | 郝学元;辛有东;康建有 | 申请(专利权)人: | 中国核工业总公司五○四厂 |
主分类号: | G01N30/72 | 分类号: | G01N30/72;G01N30/86 |
代理公司: | 核工业专利中心 | 代理人: | 赵怀印 |
地址: | 730065甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种六氟化铀中微量硼/硅元素的测量方法,涉及质谱分析领域。该方法主要包括使用具有一定灵敏度的仪器读取纯UF6相关谱峰以及杂质的谱峰的步骤,然后将所得数据代入公式W(硼)=(I48x/I333x-I48s/I333s)*K49或W(硅)=(I104x/I333x-I104s/I333s)*K104,式中,K49/K104为实验所获得仪器对硼/硅的相对灵敏系数,I为读取的相应质荷比的特征离子峰强度。本方法可以使六氟化铀中微量硼/硅元素的测量周期缩短、操作简便、成本降低。 | ||
搜索关键词: | 氟化 微量 元素 测量方法 | ||
【主权项】:
1.一种六氟化铀中微量硼/硅元素的测量方法,其特征在于它包括如下步骤:将纯UF6标准气体导入带有法拉第杯和二次电子倍增器或离子计数器的质谱计中直至238UF5 +峰为10-10A水平,记下离子峰强度I333s,用二次电子倍增器或离子计数器扫描记录质荷比为48(10BF2 +)、104(28SiF4 +)的特征离子峰,强度分别记为I48s、I104s;将质谱计内的纯UF6标准气体清理干净后导入待测UF6气体样品,导入量同先前纯UF6标准气体,且获得各峰的强度,333(238UF5 +)、48(10BF2 +)、104(28SiF4 +)分别计为I333x、I48x、I104x;将获得的上述参数带入下列相应公式,计算得出单位质量的铀中硼/硅的含量,W(硼)=(I48x/I333x-I48s/I333s)*K49或W(硅)=(I104x/I333x-I104s/I333s)*K104,式中,K49/K104为实验所获得仪器对硼/硅的相对灵敏系数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国核工业总公司五○四厂,未经中国核工业总公司五○四厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610111321.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。