[发明专利]光刻接触元件无效

专利信息
申请号: 200610108541.1 申请日: 1999-12-01
公开(公告)号: CN1900725A 公开(公告)日: 2007-01-24
发明(设计)人: G·L·马蒂厄;B·N·埃尔德里奇;G·W·格鲁布 申请(专利权)人: 佛姆法克特股份有限公司
主分类号: G01R1/067 分类号: G01R1/067;G01R3/00;H01L23/48;H01L21/48
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 李玲
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种通过光刻技术形成包括弹性接触元件的互连的方法。在一个实施例中,该方法包括把一掩膜材料涂到衬底的第一部分上,该掩模材料具有能限定弹性结构的第一部分的开口;把一结构材料(例如,导电材料)沉积到开口中,并给开口过量填充该结构材料;除去结构材料的一部分;以及除去掩膜材料的第一部分。在此实施例中,弹性结构的第一部分的至少一部分没有掩膜材料。在本发明的一个方面,该方法包括对掩膜材料层和结构材料进行平面化,以除去结构材料的一部分。在另一个方面,所形成的弹性结构包括支柱部分、横梁部分和尖端结构部分中之一。
搜索关键词: 光刻 接触 元件
【主权项】:
1.一种测试电子器件的方法,所述方法包括:提供包括多个接触结构的第一衬底,每个所述接触结构包括设置在所述第一衬底的端子上的互连元件,附着于支柱的悬臂横梁和附着于所述横梁的尖端,其中所述支柱、所述横梁和所述支柱是分别形成的;使得一些所述接触结构与所述电子器件的端子相接触;以及通过所述一些接触结构测试所述电子器件。
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