[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610107688.9 | 申请日： | 2006-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1885171A | 公开（公告）日： | 2006-12-27 |
| 发明（设计）人： | J·H·W·雅各布斯;N·坦卡特;M·H·A·李恩德斯;E·R·卢普斯特拉;M·C·M·弗哈根;H·布姆;F·J·J·詹森;I·P·M·鲍查姆斯;N·R·坎帕;J·J·奥坦斯;Y·科克;J·范埃斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于保持基板和浸没光刻装置的热平衡的方法和装置，其通过含有与基板的位置、速度和加速度相关的信息的时间表，和对应时间表内的信息而起减少局部蒸发和/或增加局部冷凝作用的蒸发控制器或冷凝控制器来实现。基板表面的水分的蒸发使其冷却，而冷凝到基板底表面的水分将该基板局部加热。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻装置，构造为将图案化的辐射束投射到支撑在基板架上的基板的靶部，基板架位于基板台的一凹槽内，其包括：液体供给系统，构造为用液体至少部分地填充投影系统的末端元件和所述的基板之间的空间；密封元件，基本设置为在所述空间内容纳所述液体；基板台位移系统，设置为沿着相对于所述密封元件的预定路径移动所述基板台，由此移动所述基板表面上的所述靶部；时间表，包括其中基板可能处经历局部冷却的基板位移系统的位置和时间；以及液体蒸发和冷凝控制器，设置为通过使用所述时间表的同步蒸发或冷凝控制技术，来控制由所述液体供给系统提供的液体的蒸发或冷凝的净能量损失速率。
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