[发明专利]基底、光刻多次曝光方法和可机读介质

摘要

一种使用光刻系统成像的方法包括将印刷在基底上的期望图案分解成能够使用光刻系统光学解析的至少两个组成分图案，在基底上涂敷位于目标层顶部上堆叠的两个硬牺牲掩模，所述掩模用期望密度的线图案对其构图。为了提供合适的蚀刻停止层，牺牲掩模层和目标层的材料选择成对于每个蚀刻步骤，两次曝光之间的蚀刻和目标层的蚀刻具有交替的选择性。

主权项

1.一种基底，包括：构造和布置成用期望图案进行光刻构图的目标层；和至少部分覆盖目标层的硬掩模层堆叠，所述堆叠包括至少部分覆盖目标层的第一硬掩模层和至少部分覆盖第一硬掩模层的第二掩模层，其中第一硬掩模层和第二硬掩模层具有相互排斥的抗蚀刻性，其中第一硬掩模层和第二硬掩模层中之一包括氧化物，而另一个硬掩模层包括氮化物。