[发明专利]激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法

摘要

一种激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法，属功能薄膜领域。PLD制备的La_1－xBa_xMnO₃薄膜，TCR为4％，退火处理时间长，TCR值提高不明显。本发明步骤：将清洗干净的基片干燥后置于真空室内的硅板加热器上；保持5×10^－4Pa～2×10^－4Pa，700℃～850℃，氧气流动压5～80Pa，准分子激光轰击La_0.67Ba_0.33MnO₃靶材；沉积结束后降至室温；将制备的薄膜置于旋转平台上，以35～60W/cm²激光辐照10～120秒。激光辐照后，薄膜的转变温度提高至340K，TCR值提高至8.8％K^－1 (307K)，成本降低，效率提高，有利于工业化生产；薄膜表面粗糙度降低。

主权项

1、一种激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将清洗干净的基片，进行干燥后置于真空室内的硅板加热器上；将真空室抽至5×10-4～5×10-5Pa后，硅板加热器升温至700℃～850℃，且真空室内真空保持在5×10-4Pa～2×10-4Pa；向真空室内充入氧气，使真空室内的流动氧压保持在5～80Pa；利用准分子激光轰击La0.67Ba0.33MnO3靶材；薄膜沉积结束后，硅板在1小时内降至室温；2)激光辐照：将制备的薄膜置于旋转平台上，在60-240秒之内将激光功率密度逐渐调节到35～60W/cm2，功率密度保持10～120秒后，在60～300秒之内将激光功率密度逐渐降至零。