[发明专利]下游等离子体处理设备和方法无效
| 申请号： | 200610076232.0 | 申请日： | 2006-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN1862393A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | 徐禾臻 | 申请（专利权）人： | PSK有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 武玉琴;张友文 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种利用等离子体从基底上除去光致抗蚀剂的下游等离子体处理设备和方法。在该下游等离子体处理设备中，通过与接地线连接而使得夹盘电接地。因此，在操作过程中，可以使得由于等离子体内的离子轰击而导致的基底损坏最小化，该离子轰击是由夹盘与等离子体之间的电势差引起的。 | ||
| 搜索关键词： | 下游 等离子体 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种下游等离子体处理设备，包括：远程等离子体源，用于为基底处理产生等离子体；处理腔，其包括用于安置所述基底的夹盘，来自所述远程等离子体源的等离子体被供给至该处理腔；以及与夹盘连接的接地线，用于使残留在所述夹盘中的电荷放电。
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