[发明专利]等离子体喷涂的氧化铝层无效
| 申请号: | 200610073941.3 | 申请日: | 2006-03-09 |
| 公开(公告)号: | CN101033534A | 公开(公告)日: | 2007-09-12 |
| 发明(设计)人: | 邓轶;莫尼卡·奥斯瓦尔德;克劳斯·德勒;罗尔夫·克拉森;格奥尔格·费林格尔 | 申请(专利权)人: | 德古萨股份公司 |
| 主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 于辉 |
| 地址: | 德国杜塞*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | 本发明提供了一种等离子体喷涂的氧化铝层,其通过在例如选自硼硅酸盐和钢组中的基底上通过使用热解法制备的氧化铝作为原料粉末来制备。 | ||
| 搜索关键词: | 等离子体 喷涂 氧化铝 | ||
【主权项】:
1.一种在基底上的等离子体喷涂的氧化铝层,其特征在于所述层中的氧化铝颗粒的尺寸为20-30nm(纳米),并且主要为α-Al2O3相。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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C23C4-18 .后处理
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