[发明专利]柱状磁控溅射器有效

专利信息
申请号: 200610062227.4 申请日: 2006-08-18
公开(公告)号: CN101126152A 公开(公告)日: 2008-02-20
发明(设计)人: 许生;徐升东;谭晓华 申请(专利权)人: 深圳豪威真空光电子股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 深圳创友专利商标代理有限公司 代理人: 彭家恩
地址: 518054广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种柱状磁控溅射器,包括靶筒、弧形屏蔽罩和磁极装置,弧形屏蔽罩位于靶筒的侧面,所述磁极装置包括板状磁轭、在板状磁轭上同平面平行排列固定的一对侧面磁钢和中间磁钢、位于侧面磁钢与中间磁钢之间的中间间隔条,所述板状磁轭平行排列固定在与弧形屏蔽罩相对的靶筒的另一侧面。进一步,在所述中间磁钢的上下端部增设有增强磁钢,增强磁钢的靠近端面的高度低于增强磁钢的靠近中间磁钢端面的高度。本发明通过设置增强磁钢,克服了现有磁极排布会造成端部的磁场弱于中间的磁场的缺陷,使得整个靶面的水平磁场更加均匀,有利于整个靶刻蚀的均匀性而且形成了完整闭合的磁路,靶材的利用率得到了进一步的提高。
搜索关键词: 柱状 磁控溅射
【主权项】:
1.一种柱状磁控溅射器,包括靶筒、弧形屏蔽罩和磁极装置,弧形屏蔽罩位于靶筒的侧面,其特征在于:所述磁极装置包括板状磁轭、在板状磁轭上同平面平行排列固定的一对侧面磁钢和中间磁钢、位于侧面磁钢与中间磁钢之间的中间间隔条,所述板状磁轭平行排列固定在与弧形屏蔽罩相对的靶筒的另一侧面。
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