[发明专利]制造图案化记录介质的方法有效
| 申请号： | 200610058141.4 | 申请日： | 2006-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN1828732A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 李丙圭 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩明星;常桂珍 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制造图案化记录介质的方法。该方法包括：将磁薄膜置于基片上；将硬质掩膜排列在磁薄膜上方，所述硬质掩膜具有多个规则分布在其中的通孔；照射硬质掩膜；和移走硬质掩膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 图案 记录 介质 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造图案化记录介质的方法，该方法包括：将磁薄膜置于基片上；将硬质掩膜排列在磁薄膜上方，所述硬质掩膜具有多个规则地分布在其中的通孔；照射硬质掩膜；和移走硬质掩膜。
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