[发明专利]基于两端厚度递减结构的多通道波长空间解复用薄膜器件

摘要

本发明公开了一种基于两端厚度递减结构的多通道波长空间解复用薄膜器件。它是在周期高反薄膜两端增加了厚度递减的渐变薄膜，整个薄膜采用了高折射率与低折射率两种材料，高、低折射率膜层相互交替，高折射率材料膜层厚度自中间向两端递减固定量值，递减厚度的固定量值大于高反薄膜中高折射率材料膜层厚度的1/15，低折射率材料膜层与高折射率膜层保持相同的光学厚度。该器件使入射的单束多波长光波在反射时不同的光波在空间上错位输出，实现多通道的解复用与合用器件，同时利用反射位相与空间色散位移之间的关系实现了多频段入射光束的空间解复用功能。由本发明制得的光波长解复用器具有空间色散大，单个器件就能够分出多个波长，插入损耗小，材料选择范围广，制作工艺方便，制作成本低，耐高温等优点，适合应用于各种波分复用光学系统中。

主权项

1.一种基于两端厚度递减结构的多通道波长空间解复用薄膜，其特征是在周期高反薄膜(1)两端增加了厚度递减的渐变薄膜(2)，整个薄膜采用了高折射率(3)与低折射率(4)两种材料，高、低折射率膜层相互交替，高折射率材料膜层厚度自中间向两端递减固定量值，递减厚度的固定量值大于高反薄膜(1)高折射率材料膜层厚度的1/15，低折射率材料膜层与高折射率膜层保持相同的光学厚度。