[发明专利]岩体结构面抗剪强度尺寸效应分形模型无效

专利信息
申请号: 200610049590.2 申请日: 2006-02-24
公开(公告)号: CN1815171A 公开(公告)日: 2006-08-09
发明(设计)人: 杜时贵;胡晓飞 申请(专利权)人: 浙江建设职业技术学院
主分类号: G01N3/24 分类号: G01N3/24;G06F19/00
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 311231*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种岩体结构面抗剪强度尺寸效应分形模型,包含以下顺序步骤:在选定的结构面上标定试验方向;根据所选定的试验方向,选取五个尺寸为10cm×10cm的结构面试样进行结构面试样的直剪试验,所述直剪试验方向与结构面试样上标定试验方向一致,求得五个尺寸为10cm×10cm的结构面直剪试验抗剪强度τ10i;根据直剪试验结果,根据计算尺寸为10cm的结构面抗剪强度统计值τ10*;将τ10*代入公式τn10[Ln/L10][-D],即得到岩体结构面抗剪强度尺寸效应分形模型:,式中D为已知的岩体结构面抗剪强度尺寸效应分维数。本发明原理简单,操作方便,使用效果好,便于根据直剪试验结果建立具有抗剪强度尺寸效应的岩体结构面抗剪强度尺寸效应规律。
搜索关键词: 结构 面抗剪 强度 尺寸 效应 模型
【主权项】:
1、一种岩体结构面抗剪强度尺寸效应分形模型,其特征在于包含以下顺序步骤:(1)在选定的结构面上标定试验方向;(2)根据所选定的试验方向,选取五个尺寸为10cm×10cm的结构面试样进行结构面试样的直剪试验,所述直剪试验方向与结构面试样上标定试验方向一致,求得五个尺寸为10cm×10cm的结构面直剪试验抗剪强度τ10i;(3)根据直剪试验结果,根据 τ 10 * = Σ i = 1 5 τ 10 i 计算尺寸为10cm×10cm的结构面抗剪强度统计值τ10*;(4)将τ10*代入公式 τ n = τ 10 [ L n L 10 ] - D , 即得到岩体结构面抗剪强度尺寸效应分形模型: τ n = τ 10 * · [ L n 10 ] - D , 式中D为已知的岩体结构面抗剪强度尺寸效应分维数。
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