[发明专利]双连续相结构的高分子合金基纳米复合材料及制备方法无效

专利信息
申请号: 200610040873.0 申请日: 2006-08-01
公开(公告)号: CN1908054A 公开(公告)日: 2007-02-07
发明(设计)人: 吴德峰;张明 申请(专利权)人: 扬州大学
主分类号: C08L23/12 分类号: C08L23/12;C08K9/06;C08L67/03
代理公司: 南京中新达专利代理有限公司 代理人: 孙鸥
地址: 225009*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种具有双连续相结构的聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚丙烯合金/蒙脱土高分子合金基纳米复合材料制备方法。本发明按重量份数:聚丙烯 50-70份,聚对苯二甲酸丁二醇酯 30-50份,有机蒙脱土1.5-5份。将聚丙烯、聚对苯二甲酸丁二醇酯加入到密炼机中,再加入有机蒙脱土,在230℃的温度、50rpm转子转速下熔融共混8-10min,得到具有双连续相结构的聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚丙烯合金/蒙脱土高分子合金基纳米复合材料。解决了蒙脱土简单熔融共混直接制备出的插层型纳米复合材料在拉伸强度提高的同时韧性却下降的缺陷。本发明简便易行且成本低廉,大幅提高聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚丙烯合金的拉伸及抗冲性能。
搜索关键词: 双连 结构 高分子 合金 纳米 复合材料 制备 方法
【主权项】:
1.双连续相结构的高分子合金基纳米复合材料,其特征在于按如下重量份数组成:聚丙烯 50-70份聚对苯二甲酸丁二醇酯 30-50份有机蒙脱土 1.5-5份
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