[发明专利]一种截留率可调控的电磁约束分离膜无效

专利信息
申请号: 200610040159.1 申请日: 2006-04-28
公开(公告)号: CN1879951A 公开(公告)日: 2006-12-20
发明(设计)人: 潘见;谢慧明;何亚荟;张文成 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: B01D71/00 分类号: B01D71/00;B01D69/02
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 代理人: 何梅生
地址: 230009*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种截留可调控的电磁约束分离膜,是在分离膜中均匀分布有纳米级至毫米级的磁性材料或/和磁致伸缩材料。本分离膜在外加磁场的作用下实现截留率的调控和选择,从而方便多组分物质的分级与分离。本分离膜的加工就是在原料中加入磁性介质用公知的成型工艺如溶液浇铸法、熔融拉伸法、聚合法等加工成型。
搜索关键词: 一种 截留 调控 电磁 约束 分离
【主权项】:
1、一种截留率可调控的电磁约束分离膜,其特征在于:本分离膜中均匀分布有纳米级至毫米级的磁性介质,所述的磁性介质可以是磁性材料或/和磁致伸缩材料。
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