[发明专利]用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置有效

专利信息
申请号: 200610039967.6 申请日: 2006-04-24
公开(公告)号: CN1845017A 公开(公告)日: 2006-10-11
发明(设计)人: 李朝明;吴建宏;朱亚一;居戬之;胡祖元;陈新荣;刘全;韦小茹 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G02B5/32
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 孙仿卫
地址: 21500*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置,外界的扰动常造成干涉条纹的随机漂移,从而使拍摄的全息光栅质量下降,利用线阵CCD采集干涉条纹图像信息并传送给控制装置,控制装置计算条纹漂移量,控制装置控制与反射镜连接在一起的压电陶瓷移动进行位相补偿,可使干涉条纹的漂移大大的减小,达到稳定曝光区域干涉条纹,曝光时间将允许大大延长。
搜索关键词: 控制 装置 稳定 全息 干涉 条纹 方法
【主权项】:
1、一种用控制装置稳定全息干涉条纹的方法,它包括以下步骤:a、将激光通过分束镜(16)分成物光(1)和参考光(2),物光(1)经物光反射镜(3)、物光扩束系统(5)后变为物宽光束(6),照射在主记录干版(7)上;参考光(2)经参考光反射镜(8)、参考光扩束系统(9)后变为参考宽光束(10),也照射在主记录干版(7)上;物宽光束(6)和参考宽光束(10)相互干涉在主记录干版(7)上形成干涉条纹;其特征在于:在与所述主记录干版(7)同一平面上还设有参考干版(11),所述的物宽光束(6)与参考宽光束(10)也照射在参考干版(11)上,物宽光束(6)和参考宽光束(10)相互干涉也在参考干版(11)上形成干涉条纹;b、将曝光过的参考干版(11)取出,经显影,定影处理后形成参考光栅(12),再将参考光栅(12)放置到原来放参考干版(11)所在的位置;c、重复步骤a,此时物宽光束(6)与参考宽光束(10)再次照射到步骤b后所得的参考光栅(12)上,在参考光栅(12)的后部区域接受到物宽光束(6)的零级透射光(18)与参考宽光束(10)的一级衍射光(17)形成的干涉条纹(13);d、利用线阵CCD(14)对在步骤c中形成的干涉条纹(13)的图像信息进行采集,调节参考光栅(12)的位置,使所述的线阵CCD(14)能够采集到干涉条纹(13)的图像信息,并将所述的图像信息传送到控制装置(15)中,由控制装置(15)计算干涉条纹(13)的漂移量并与设定值进行比较,当干涉条纹(13)的漂移量大于设定值时,控制装置(15)发出控制信号,控制与物光反射镜(3)连接在一起的压电陶瓷(4)移动,使得物光反射镜(3)作改变物光(1)光程的运动,进行位相补偿,直至干涉条纹(13)的漂移量小于等于设定值,从而使在主记录干版(7)上形成的干涉条纹的漂移量满足全息光栅记录的要求。
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