[发明专利]抛光砖专用化学抛光剂有效
| 申请号： | 200610035936.3 | 申请日： | 2006-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1861725A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | 周文鹏 | 申请（专利权）人： | 周文鹏 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/18 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 詹仲国 |
| 地址： | 528000广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光砖专用化学抛光剂，该抛光剂是由如下组份构成：不同纳米级液体硅砂8－40％，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上表面活性剂组合0.01－1％，一种或一种以上的有机溶机混合物0.1－5％，去离子水60－90％，其中，非离子表面活性剂可采用聚氧乙烯烷醚、聚氧乙烯多元醇醚；阴离子表面活性剂可采用十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠；氟碳表面活性剂采用全氟辛酸铵、全氟癸酸铵；机溶机混合物采用如甲醇、乙醇、丁酮；采用上述组份的抛光剂具有效提高抛光砖光泽，且耐久、保光性好的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 专用 化学抛光 | ||
【主权项】：
1、抛光砖专用化学抛光剂，其特征在于，抛光剂是由如下组份构成(重量份)：纳米级液体硅砂8-40％，非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、氟碳表面活性剂的一种或一种以上0.01-1％，一种或一种以上的有机溶机混合物0.1-5％，去离子水60-90％。
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