[发明专利]周边露光处理单元无效
| 申请号： | 200610030272.1 | 申请日： | 2006-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN101131542A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 谢华;张鹏 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201203上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种周边露光处理单元，其包括一露光面罩，所述露光面罩上设有一露光区域，该露光区域为矩形，其大小范围为4*2.5mm＜露光区域≤4*8mm。本发明通过改变露光面罩的露光区域的大小，实现增加单位时间内的露光量，可缩短制品作业时间，提高设备利用效率及产量。 | ||
| 搜索关键词： | 周边 露光 处理 单元 | ||
【主权项】：
1.一种周边露光处理单元，其包括一露光面罩，所述露光面罩上设有一露光区域，其特征在于，该露光区域为矩形，其大小范围为4*2.5mm＜露光区域≤4*8mm。
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