[发明专利]有机硅微孔沸石、合成方法及其应用有效
| 申请号： | 200610029980.3 | 申请日： | 2006-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN101121524A | 公开（公告）日： | 2008-02-13 |
| 发明（设计）人： | 高焕新;周斌;魏一伦 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 |
| 主分类号： | C01B39/02 | 分类号： | C01B39/02;C01B39/46;B01J29/04;B01J20/18 |
| 代理公司： | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张惠明 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种有机硅微孔沸石、合成方法及其应用，主要解决现有技术中合成的微孔沸石骨架结构中不含有机硅的问题。本发明通过采用包括以下摩尔关系的组成：(1/n)Al2O3∶SiO2∶(m/n)R，式中n＝5～250，m＝0.01～50，R为烷基、烷烯基或苯基中的至少一种；其Si29NMR固体核磁图谱在－80～+50ppm之间至少包含有一个Si29核磁共振谱峰；其X－射线衍射图谱在12.4±0.2，11.0±0.3，9.3±0.3，6.8±0.2，6.1±0.2，5.5±0.2，4.4±0.2，4.0±0.2和3.4±0.1埃处有d－间距最大值的技术方案较好地解决了上述问题。该微孔沸石可作为有机化合物转化用的吸附剂或催化剂组份。 | ||
| 搜索关键词： | 有机硅 微孔 合成 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种有机硅微孔沸石，包括以下摩尔关系的组成：(1/n)Al2O3∶SiO2∶(m/n)R，式中n＝5～250，m＝0.01～50，R为烷基、烷烯基或苯基中的至少一种；所述沸石的Si29NMR固体核磁图谱在-80～+50ppm之间至少包含有一个Si29核磁共振谱峰；所述沸石的X-射线衍射图谱在12.4±0.2，11.0±0.3，9.3±0.3，6.8±0.2，6.1±0.2，5.5±0.2，4.4±0.2，4.0±0.2和3.4±0.1埃处有d-间距最大值。
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