[发明专利]一种双等离子体处理工业废气的方法与装置有效
| 申请号： | 200610028018.8 | 申请日： | 2006-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN1915479A | 公开（公告）日： | 2007-02-21 |
| 发明（设计）人： | 张仁熙;侯惠奇;苏小红;顾丁红 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | B01D53/76 | 分类号： | B01D53/76 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 20043*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属废气处理技术领域，具体为一种双等子体处理工业废气的方法与装置。该方法由一台等离子体电源同时实现二个区域的介质阻挡放电：常压气体放电区(I区)和低压气体紫外福射区(II区)待处理废气由I区进入系统，再经过II区紫外辐射，提高了污染物的去除效率。装置由3个直径不同的石英管和内外电极组成，三个石英管之间形成上述2个放电区。本发明的双等离子体反应系统同常压气体介质阻挡放电系统相比，外施电压降低3000V左右，能量利用率提高30％；该系统结构紧凑，能效高，处理效果好，可用于多种工业废气的除污处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 工业 废气 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种双等离子体处理工业废气的方法，其特征在于由原来的双层石英介质改为三层石英介质层，使三层石英介质分割形成两个放电区域：常压气体放电区和低压气体紫外福射区；工业废气由常压气体放电区进入系统，经过低压气体紫外辐射区，实现高效去除污染物、净化气体的效果。
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