[发明专利]轴对称两镜系统中的二次曲面镜面形的修正检测方法无效

专利信息
申请号: 200610026934.8 申请日: 2006-05-26
公开(公告)号: CN1885088A 公开(公告)日: 2006-12-27
发明(设计)人: 钮新华 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G02B23/06 分类号: G02B23/06;G01M11/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 田申荣
地址: 20008*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种轴对称两镜系统中的二次曲面镜面形的修正检测方法,该方法是利用经典两镜系统轴上点成完善像的特性,实现轴对称两镜系统中的二次曲面镜的面形修正控制和像质精确测量。本发明的优点是:能够直接保证两镜系统主、次镜的实际面形、光学参数与理论设计值的一致性;具体检验的操作过程简单、容易;不需要使用补偿器,能够有效缩短光学加工的周期,节约研制成本。
搜索关键词: 轴对称 系统 中的 二次曲面 镜面形 修正 检测 方法
【主权项】:
1.一种轴对称两镜系统中二次曲面镜面形的检测修正方法,其特征在于具体步骤如下:A.首先根据二次曲面轴对称两镜系统中主镜(1)和次镜(2)的顶点曲率半径、偏心率,计算出经典两镜系统的主、次镜间隔d0;B.通过比较二次曲面轴对称两镜系统主镜和次镜的设计间隔d与步骤A计算出的经典两镜系统的主、次镜间隔d0,确定轴对称两镜系统光路中次镜沿轴移动方向和轴向移动距离,最终使实际检测光路中的主、次镜间隔为d0;C.主、次镜面形检测及修正面形检测有二种方法:一种将刀口仪放在两镜系统的像面位置(3),标准平面反射镜放在目标位置(4),刀口仪作为光源,发出的光线依次经次镜、主镜、标准平面反射镜反射,再按原光路反射回来成像在像面位置(3)上,然后通过沿垂直光轴方向移动刀口仪观测阴影图或用读数显微镜测量像点;另一种将标准平行光管放在两镜系统的目标位置(4),刀口仪放在两镜系统的像面位置(3),由平行光管发出的光束依次经主镜、次镜反射,在像面位置成像,用刀口仪检测像点或用读数显微镜测量像点;根据像点偏差,修磨主镜或次镜,通过反复检测和修磨,直至两镜系统在像面的像质满足要求为止;D.在检测结果满足加工要求后,将次镜定位在设计工作位置d即可。
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