[发明专利]投影曝光装置中的离轴位置对准系统和对准方法无效
| 申请号： | 200610023156.7 | 申请日： | 2006-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN1794097A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 徐兵;闫岩;王鹏程 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影曝光装置中带有离轴位置对准装置的位置对准方法，包括下列步骤：通过掩模版上的通光窗口照明承片台基准标记，由掩模位置对准装置拍摄承片台基准标记，并存储该图像位置信息；由掩模位置对准装置拍摄掩模标记，并存储该图像位置信息；由曝光对象位置对准装置照明承片台基准标记，并拍摄承片台基准标记，然后存储该图像位置信息；由曝光对象位置对准装置拍摄曝光对象标记，并存储该图像位置信息；通过存储的各图像的位置关系，调整掩模、承片台和曝光对象的位置使其对准。本发明实现了掩模和曝光对象之间的高精度位置对准。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 曝光 装置 中的 位置 对准 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种投影曝光装置中的离轴位置对准系统，设置于一个至少由光学投影系统、掩模、承片台、曝光对象，以及部件运动控制系统组成的投影曝光装置上，其特征在于它包括，以光学投影系统轴线为轴心均匀分布的不少于两个的掩模位置对准装置、设置于较掩模位置对准装置更接近于承片台的曝光对象位置对准装置、设置于掩模上的掩模标记、设置于承片台上的承片台基准标记、设于曝光对象上的曝光对象标记，所述的掩模位置对准装置检测所述的掩模标记和承片台基准标记之间的相对位置关系，所述的曝光对象位置对准装置检测曝光对象标记和承片台基准标记之间的相对位置关系，并传送给部件运动控制系统，以控制掩模、承片台、曝光对象位置调整使其对准。
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