[发明专利]一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备有效
| 申请号： | 200610008964.6 | 申请日： | 2006-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN1818128A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 池昶恂 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨松龄 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种支撑加热坩埚的装置，包括支撑台和防污盘，支撑台的上表面形成有许多孔洞，防污盘分布于支撑台的各个孔洞入口处，并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 支撑 加热 坩埚 装置 以及 包括 沉积 设备 | ||
【主权项】：
1.一种支撑加热坩埚的装置，包括：支撑台，其上表面上形成有许多孔洞，防污盘，它分布于支撑台各个孔洞的入口处，并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。
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