[发明专利]确定掩模布局中改善的辅助特征配置的方法和装置

摘要

本发明的一个实施例提供了一种确定未校正或校正的掩模布局中一个或多个辅助特征的位置和尺寸的系统。在操作中，该系统接收一个掩模布局。该系统随后创建一组候选辅助特征配置，其指定了所述掩模布局中的一个或多个辅助特征的位置和尺寸。其后，该系统利用这组候选辅助特征配置及一个处理灵敏度模型来确定改善的辅助特征配置，该处理灵敏度模型可由包含处理灵敏度信息的多维函数来表示。请注意，根据改善的辅助特征配置在掩模布局中放置辅助特征，改善了掩模布局的可制造性。而且，利用所述处理灵敏度模来确定改善的辅助特征配置，减少了确定掩模布局中改善的辅助特征配置所需要的计算时间。

主权项

1.一种用于确定辅助特征配置的方法，该辅助特征配置指定了一个掩模布局中的一个或多个辅助特征的位置和尺寸，所述方法包括：接收一个掩模布局；创建一组候选辅助特征配置；及使用该组候选辅助特征配置和一个处理灵敏度模型来确定一个改善的辅助特征，所述处理灵敏度模型可由一个包含处理灵敏度信息的多维函数来表示；其中基于所述改善的辅助特征配置在所述掩模布局中放置辅助特征，改善了所述掩模布局的可制造性；其中使用所述处理灵敏度模型来确定该改善的辅助特征配置，减少了在所述掩模布局中确定所述改善的辅助特征配置所需的计算时间。