[发明专利]低压处理机台有效
| 申请号： | 200610000520.8 | 申请日： | 2006-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN1793763A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 黄庭辉 | 申请（专利权）人： | 广辉电子股份有限公司 |
| 主分类号： | F26B5/04 | 分类号： | F26B5/04;F26B9/06 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种低压处理机台，包括一基座、一承载盘、一壳体以及至少一第一滚轮组。承载盘设于该基座之上，用以置放一基板。壳体以可脱离的方式设于该基座之上，该壳体可以于一第一位置以及一第二位置之间移动，当该壳体位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘位于该腔体之中。当欲拆卸该壳体时，该第一滚轮组可接触并支撑该壳体，并帮助该壳体沿一第一水平方向滑动。 | ||
| 搜索关键词： | 低压 处理 机台 | ||
【主权项】：
1.一种低压处理机台，用以处理一基板，包括：一基座；一承载盘，设于该基座之上，用以置放该基板；一壳体，以可脱离的方式设于该基座之上，该壳体可以于一第一位置以及一第二位置之间移动，当该壳体位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘位于该腔体之中；以及至少一第一滚轮组，其中，当欲拆卸该壳体时，该第一滚轮组可接触并支撑该壳体，并帮助该壳体沿一第一水平方向滑动。
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