[发明专利]基于有机染料的热致收缩的母盘制作无效

专利信息
申请号: 200580046173.6 申请日: 2005-12-22
公开(公告)号: CN101099206A 公开(公告)日: 2008-01-02
发明(设计)人: E·R·梅因德斯;J·米勒 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26;B41M5/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李亚非;谭祐祥
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及在主基底的记录组中提供高密度起伏结构的方法,这种主基底尤其是用于制造压模的主基底,这种压模用于光盘的大规模制造,或者是用于制造用于微接触印刷的压模的主基底。本发明还涉及用于产生高密度起伏结构的主基底,尤其是用于制造压模的主基底,这种压模用于光盘的大规模制造,或者是用于制造用于微接触印刷的压模的主基底。本发明还涉及包括染料层的主基底的特殊使用以及包括高密度起伏结构的主基底。此外,本发明还涉及制造用于光盘的大规模制造的压模、光盘和缩微印刷品。根据本发明的所有方面,通过激光脉冲引致的染料层材料的收缩直接或间接形成前面所有的这些用途所要求的高密度起伏结构。
搜索关键词: 基于 有机 染料 收缩 母盘 制作
【主权项】:
1.一种在主基底(26)的记录组(12、14和16)中提供高密度起伏结构(18)的方法,所述主基底(26)尤其是用于制造压模(20)的主基底,所述压模(20)用于光盘(22)的大规模制造,或者是用于制作用于微接触印刷的压模(24)的主基底(26),所述方法包括以下步骤:提供包括染料层(14)的记录组(12、14和16);以及通过施加激光脉冲来收缩染料层材料,以在所述染料层(14)中产生所述高密度起伏结构(18)。
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