[发明专利]形成用于光刻转印的准直UV光线的方法和设备无效
申请号: | 200580042738.3 | 申请日: | 2005-12-13 |
公开(公告)号: | CN101095084A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | P·多马诺夫斯基 | 申请(专利权)人: | 拉多韦有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K3/00;G02B6/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 杨晓光;于静 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明提供一种生产用于曝光印刷电路板的准直的UV辐射的改进方法和设备。该方法在于,通过分开多个辐射源上的UV辐射来缩短下游光学装置的光程长,并且,通过使用扫描滑动片来将UV辐射均匀地分布在基底上。 | ||
搜索关键词: | 形成 用于 光刻 uv 光线 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种形成准直UV辐射的方法,用于将图案光刻转印到涂有光敏聚合物的基底上,该方法包括以下步骤:(a)提供多个小型的UV辐射源,所述辐射源的UV辐射通过较短的准直光学装置被准直,(b)将所述小型的UV辐射源附接到支撑板,以及(c)将所述支撑板安装在扫描滑动片上,并且,通过与所述基底边之一平行地移动所述扫描滑动片来曝光所述基底。
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