[发明专利]多点检验设备无效
| 申请号： | 200580041982.8 | 申请日： | 2005-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101072996A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | D·J·W·克隆德;M·范赫佩恩;M·巴利斯特雷里;C·利登巴姆;M·普林斯;R·温贝格尔－弗里德尔;R·库尔特 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/55 | 分类号： | G01N21/55;G01N21/64 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及通过由隐失波生成的多个样本光点(501)检验样本材料的方法和设备。通过多点发生器，例如，多模干涉仪(106)生成源光点(510)阵列，并通过(微)透镜(202，203)或通过Talbot效应将其映射到样本层(302)内的样本光点(501)上。对由所述源光点(510)构成的输入光(504)整形，从而使所有输入光都在透明载体板(301)和样本层(302)之间的界面处受到全内反射。因而，所述样本光点(501)仅由隐失波构成，并被限制在有限体积。在优选应用中，采用CCD阵列(401)通过空间分解探测在样本光点(501)中激励的荧光。 | ||
| 搜索关键词： | 多点 检验 设备 | ||
【主权项】：
1、一种采用光处理样本材料的设备，包括：a)存储单元(300)，其具有透明载体(301)和与载体(301)的一侧(“样本侧”)相邻设置的样本层(302)；b)用于生成输入光(504)的多点发生器MSG(100)；c)透射部分(200)，其用于将所述输入光透射至所述载体(301)，其中，所有抵达所述载体(301)的所述样本侧的内表面的输入光在该处受到全内反射，并且通过隐失波在样本层(302)内生成样本光点(501)阵列。
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