[发明专利]基于激光器的退火系统中用于高温计的多带通过滤

摘要

一种热处理系统包括以激光波长发射的激光辐射源、设置在反射表面和能容纳待处理衬底的衬底支架之间的光束投射光学装置、响应于高温计波长的高温计，以及波长响应光学元件，该光学元件具有用于在包括激光波长的第一波长范围内的光的第一光学路径，第一光学路径位于激光辐射源和光束投射光学装置之间，以及具有用于在包括高温计波长的第二光学范围内的光的第二光学路径，第二光学路径位于光束投射光学装置和高温计之间。该系统可进一步包括在激光辐射源和波长响应光学元件之间的高温计波长阻挡滤波器。

主权项

一种用于热处理半导体衬底的热处理系统，所述热处理系统包括：激光波长的激光辐射源，所述半导体衬底于该激光波长吸收辐射作为热能并且发射所吸收的热能作为高温计波长的辐射；反射表面，所述反射表面调谐用于在所述激光波长反射辐射并在所述高温计波长通过辐射；光学装置，所述光学装置设置在所述反射表面和所述半导体衬底之间；高温计，所述高温计设置在与所述光学装置相对的所述反射表面的一侧上，所述高温计对于所述高温计波长敏感，其中所述光学装置将所述半导体衬底的区域成像在所述高温计上；第一光学滤波器，所述第一光学滤波器设置在所述激光辐射源和所述反射表面之间以阻挡由包括所述高温计波长的所述激光辐射源发出的部分辐射；以及源控制器，响应于所述高温计并且与所述激光辐射源耦合，由此响应于所述高温计来控制所述激光辐射源。