[发明专利]微波等离子体处理装置无效

专利信息
申请号: 200580034145.2 申请日: 2005-10-06
公开(公告)号: CN101036420A 公开(公告)日: 2007-09-12
发明(设计)人: 田才忠;野泽俊久 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H01L21/31;C23C16/511
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种微波等离子体处理装置,能够根据处理条件等的变化,容易地确保等离子体的均匀性和稳定性。是一种利用微波在所述腔室内形成处理气体的等离子体,利用该等离子体对被处理体进行等离子体处理的微波等离子体处理装置(100),在由覆盖微波透过板(28)的外周的导电体构成的板(27)上,形成两个以上的孔(42),该孔从微波透过板(28)的端部向着其内部,传送微波,通过体积调节机构(43、45)来调节孔的体积,在将微波透过板(28)分割成各孔(42)所属于的每个单元的情况下,调节各单元的阻抗,控制微波透过板(28)的电场分布。
搜索关键词: 微波 等离子体 处理 装置
【主权项】:
1.一种微波等离子体处理装置,其特征在于,包括:收容被处理体的腔室;产生微波的微波发生源;向所述腔室引导由微波发生源所产生的微波的波导单元;由导体构成的平面天线,该平面天线具有将引导至所述波导单元的微波向所述腔室放射的多个微波放射孔;由介电体构成的微波透过板,该微波透过板构成所述腔室的顶壁,用于透过已经通过所述平面天线的微波放射孔的微波;覆盖所述微波透过板外周的由导电体构成的板;从所述微波透过板传送微波的两个以上的孔,所述孔从所述微波透过板的端部向着所述板的内部设置;调节这些孔的体积的体积调节机构;和向所述腔室内供给处理气体的处理气体供给单元,利用微波在所述腔室内形成处理气体的等离子体,利用该等离子体对被处理体进行等离子体处理,其中,通过利用所述体积调节机构调节所述各孔的体积,对将所述微波透过板按所述两个以上的孔的各自所属单元进行分割时的各单元的阻抗进行调节,控制所述微波透过板的电场分布。
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